璞璘科技的步进式纳米压印设备成功交付配资交流平台，线宽小于10nm的工艺让其核心指标超越日本佳能同类产品。
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上海芯上微装更是惊人，今年2月成立，半年就交付500台步进光刻机。
这一系列的突破标志着我国高端半导体装备发展踏入新阶段，光刻机国产替代进程大大加快。
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从整机到核心部件，我国相关企业已具备一定的实力来打破国外技术垄断。
在他们的共同努力下，光刻机国产替代加速前进，企业发展迎来大好前程！
光刻机概念梳理
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